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三星已組建專注于1nm芯片開發(fā)的團(tuán)隊(duì) 量產(chǎn)目標(biāo)定于2029年

作者: 時(shí)間:2025-04-10 來源:cnBeta.COM 收藏

2nm GAA 工藝進(jìn)展被傳順利,但的目標(biāo)是通過推出自己的 工藝來突破開發(fā)的技術(shù)限制。一份新報(bào)告指出,該公司已經(jīng)成立了一個(gè)團(tuán)隊(duì)來啟動(dòng)這一工藝。然而,由于量產(chǎn)目標(biāo)定于 2029 年,我們可能還需要一段時(shí)間才能看到這種光刻技術(shù)的應(yīng)用。

本文引用地址:http://www.2s4d.com/article/202504/469248.htm

晶圓的開發(fā)需要“高 曝光設(shè)備”,但目前尚不清楚是否已訂購(gòu)這些機(jī)器。

另一方面,也正在推出 2 納米以下,據(jù)報(bào)道,這家臺(tái)灣半導(dǎo)體巨頭已于 4 月初開始接受 2 納米晶圓訂單。至于,在其 2 納米 GAA 技術(shù)的試產(chǎn)過程中,據(jù)報(bào)道其良率達(dá)到了 30%,這比 3 納米 GAA 工藝有所提升,但仍有很大提升空間。據(jù)稱,也已開始開發(fā) 1.4 納米節(jié)點(diǎn),因此三星在 1 納米工藝上的突破將使其取得一些領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)。

根據(jù)爆料人@Jukanlosreve披露的細(xì)節(jié),該公司的 工藝被稱為“夢(mèng)想中的半導(dǎo)體工藝”,而要實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo),需要使用高數(shù)值孔徑 EUV 曝光設(shè)備,而三星尚未購(gòu)置此類設(shè)備。報(bào)道還提到,一些參與開發(fā)這一尖端工藝的研究人員已被調(diào)入團(tuán)隊(duì)。

這篇報(bào)道的有趣之處在于,此前有消息稱三星已取消其1.4納米制程,這可能是因?yàn)槿钦龑①Y源和人力集中用于2納米技術(shù),盡管三星并未透露采取這一舉措的具體原因。假設(shè)三星成功生產(chǎn)出首顆1納米晶圓,該公司也需要一段時(shí)間才能實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),因?yàn)槠淠繕?biāo)是在2029年,也就是四年后,在此期間,這家韓國(guó)巨頭會(huì)有很大可能遇到一些生產(chǎn)障礙。



關(guān)鍵詞: 三星 1nm 芯片 臺(tái)積電 NA EUV

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