美國、日本領(lǐng)導(dǎo)政府支持的光刻機(jī)(EUV)推廣，韓國據(jù)報(bào)道落后

根據(jù)韓國媒體 outlet ETNews 的報(bào)道，美國和日本正積極通過政府主導(dǎo)的舉措將極紫外(EUV)光刻機(jī)引入公共研究機(jī)構(gòu)。相比之下，韓國政府在這一領(lǐng)域的推動(dòng)工作落后于美國和日本，報(bào)道暗示。

美國 – 國家半導(dǎo)體技術(shù)中心加速 EUV 技術(shù)采用

報(bào)告援引行業(yè)消息人士稱，美國國家半導(dǎo)體技術(shù)中心（NSTC）已在紐約的阿爾巴尼納米技術(shù)園區(qū)完成了 EUV 光刻設(shè)備的安裝，并計(jì)劃從 2025 年 7 月開始為企業(yè)提供服務(wù)。報(bào)告還指出，據(jù)稱 NSTC 計(jì)劃在 2026 年推出高 NA EUV 設(shè)備——這是制造 2 納米及以下半導(dǎo)體工藝所必需的先進(jìn)工具。

由于成本高昂，報(bào)告解釋說，SoC 材料和設(shè)備（M&E）公司通常無法獨(dú)立負(fù)擔(dān)或操作 EUV 設(shè)備。相反，他們依賴于像 NSTC 這樣的開放研究中心以獲得開發(fā)支持。據(jù)報(bào)告稱，NSTC 去年 2 月啟動(dòng)，獲得了 50 億美元的美國政府資金，以支持芯片制造商和 SoC M&E 公司的研發(fā)。

日本通過政府主導(dǎo)計(jì)劃擴(kuò)大 EUV 技術(shù)推進(jìn)

日本也正通過政府支持的努力采用 EUV 設(shè)備來提升其技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)力。據(jù)報(bào)道，日本政府正在國家先進(jìn)工業(yè)科學(xué)技術(shù)研究所（AIST）建設(shè)一個(gè)配備 EUV 光刻設(shè)備的研發(fā)設(shè)施，預(yù)計(jì)將于 2027 年開始運(yùn)營。

有報(bào)道稱韓國在 EUV 研發(fā)方面難以保持步伐

同時(shí)，據(jù)報(bào)道，韓國兩年前宣布計(jì)劃建立一個(gè)“韓國版 imec”，配備先進(jìn)設(shè)施，但該項(xiàng)目現(xiàn)已暫停。

它還強(qiáng)調(diào)，正在建設(shè)中的“微型晶圓廠”（Trinity Fab）——由貿(mào)易、工業(yè)和能源部、SK hynix 和其他芯片制造商領(lǐng)導(dǎo)——計(jì)劃采用氬氟化物（ArF）浸沒式設(shè)備，而不是 EUV 工具。