臺(tái)積電產(chǎn)能利用率下半年將迎來(lái)大幅提升,尤其是 7nm 及以下工藝
6 月 29 日消息,去年下半年開(kāi)始的芯片需求下滑,影響到了芯片產(chǎn)業(yè)鏈上的眾多廠(chǎng)商,最大的晶圓代工商臺(tái)積電也不例外,產(chǎn)能利用率有下滑,營(yíng)收已連續(xù)兩個(gè)季度環(huán)比下滑。
本文引用地址:http://www.2s4d.com/article/202306/448122.htm在營(yíng)收連續(xù)兩個(gè)季度下滑之后,臺(tái)積電也有了產(chǎn)能利用率開(kāi)始回升的消息。上周就曾有報(bào)道稱(chēng),臺(tái)積電 7nm 及以下先進(jìn)制程工藝的產(chǎn)能利用率,在進(jìn)入 6 月份之后已開(kāi)始緩慢反彈。
而相關(guān)媒體最新援引晶圓廠(chǎng)工具制造商消息人士的透露報(bào)道稱(chēng),臺(tái)積電的產(chǎn)能利用率,尤其是 7nm 及以下制程工藝的產(chǎn)能利用率,在今年下半年將大幅提升。
值得注意的是,在 5nm 制程工藝開(kāi)始帶來(lái)營(yíng)收的第二個(gè)季度,也就是從 2020 年的四季度開(kāi)始,7nm 及以下制程工藝就已是臺(tái)積電主要的營(yíng)收來(lái)源,當(dāng)季就占到了 49%,近幾個(gè)季度更是超過(guò)了 50%。代工價(jià)格更高的 7nm 及以下制程工藝產(chǎn)能利用率的大幅提升,也將推動(dòng)臺(tái)積電營(yíng)收的大幅提升。
臺(tái)積電 7nm 及以下制程工藝產(chǎn)能利用率大幅提升,可能同蘋(píng)果的訂單及其他大客戶(hù)轉(zhuǎn)向更先進(jìn)的制程工藝有關(guān)。從外媒的報(bào)道來(lái)看,蘋(píng)果今秋將推出的 iPhone 15 系列的兩款 Pro 版,將搭載由臺(tái)積電 3nm 制程工藝代工的 A17 仿生芯片,臺(tái)積電 4nm 及 5nm 制程工藝將會(huì)有更多的產(chǎn)能滿(mǎn)足其他廠(chǎng)商的需求,在蘋(píng)果開(kāi)始轉(zhuǎn)向 3nm 之后,也就會(huì)更多的廠(chǎng)商采用臺(tái)積電的 5nm 及 4nm 制程工藝。
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