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美光3D內(nèi)存封裝標(biāo)準(zhǔn)“3DS” 或成DDR4基石

—— 有可能成為下一代DDR4內(nèi)存的基本制造技術(shù)
作者: 時間:2011-12-18 來源:semi 收藏

  科技今天表示,正在與標(biāo)準(zhǔn)化組織JEDEC合作,爭取制定堆疊封裝技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)化,并且有可能成為下一代DDR4內(nèi)存的基本制造技術(shù)。將此標(biāo)準(zhǔn)提案稱為“3DS”,也即“三維堆疊”(three-dimensional stacking)。

本文引用地址:http://www.2s4d.com/article/127116.htm

  計劃使用特殊設(shè)計的主從DRAM芯片(die),其中只有主die才與外界內(nèi)存控制器發(fā)生聯(lián)系,從die只是輔助芯片,同時還會用上優(yōu)化的DRAM die、每堆棧單個DLL、減少主動邏輯電路、共享的單個外部I/O、改進時序、降低外部負(fù)載等等,最終目的是一方面改善內(nèi)存的時序、總線速度、信號完整性,另一方面降低內(nèi)存子系統(tǒng)的功耗和系統(tǒng)壓力。

  美光還特意展示了當(dāng)前內(nèi)存技術(shù)在不同rank之間讀取時候的時序局限。由于系統(tǒng)限制,會在數(shù)據(jù)總線上出現(xiàn)一個周期的滯后,進而影響整體系統(tǒng)帶寬。美光宣稱3DS技術(shù)可以消除這些局限,特別是可以從不同rank那里接受讀取指令,從而“改進數(shù)據(jù)總線利用率和帶寬”。

  在此之前,美光已經(jīng)利用IBM 32nm HKMG工藝量產(chǎn)3D TSV硅穿孔內(nèi)存芯片。



關(guān)鍵詞: 美光 3D內(nèi)存

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