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提高GaAs襯底上InAs量子阱的遷移率

  • 德國(guó)的研究人員報(bào)告說(shuō),在分子束外延 (MBE) 期間使用的表面平滑技術(shù)提高了砷化銦 (InAs) 量子阱 (QW) 在砷化鎵 (GaAs) 襯底上的遷移率,特別是在低于 120K 的低溫下 [A. Aleksandrova et al, Appl. Phys. Lett., v126, p232109, 2025]。來(lái)自柏林洪堡大學(xué)、Institut Kurz GmbH 和 Paul-Drude-Institut für Festk?rperelektronik 的團(tuán)隊(duì)評(píng)論道:“隨著表面平滑的引
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