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LAKER-CALIBRE REALTIME整合流程

—— 獲得2012 TSMC OIP定制設計參考流程采用
作者: 時間:2012-10-24 來源:電子產品世界 收藏

  與明導國際(Mentor Graphics)日前宣布其共同合作的LakerTM-CalibreTM RealTime定制版圖流程,擁有簽核確認質量的實時設計規(guī)則檢查(DRC),通過臺灣積體電路制造有限公司(TSMC) 2012 定制設計與模擬-混和信號(AMS)參考設計流程的認證,具備解決20nm芯片設計與驗證復雜性的能力。

本文引用地址:http://www.2s4d.com/article/138065.htm

  最新版Laker-Calibre RealTime流程,整合的新世代Laker3TM OA 定制系統(tǒng)、明導Calibre RealTime平臺、與晶圓廠簽核確認標準的設計規(guī)則文件。對于擁有電壓相依性與二次圖像設計規(guī)則檢查功能的20nm版圖設計中,它提供簽核確認質量的實體驗證。在TSMC 2012定制設計/AMS參考流程中,此功能可使設計人員快速完成設計,并縮短整體的設計周期。

  關于Laker-Calibre RealTime流程

  20nm的設計規(guī)則很復雜,在沒有持續(xù)回饋的情形下,很難達到滿足晶圓廠簽核確認規(guī)格的干凈版圖。對20nm設計而言,工程師必須畫出符合二次圖像規(guī)則的正確版圖,且符合新的電壓相依性之設計規(guī)則。在Laker-Calibre RealTime的流程中,Calibre DRC的引擎在Laker環(huán)境中持續(xù)監(jiān)視設計版圖編輯,而且立即警示標出違反設計規(guī)則的地方。例如,當編輯版圖時,電壓會自動貼回圖像上,如此任何TSMC新的電壓相依性DRC(VDRC)的錯誤,將立即被標示出來。這個流程利用Si2 OpenAccess (OA)數(shù)據庫與實時模型(RTM),再加上TSMC可互通的制程設計套件(iPDK),使用多個供貨商解決方案來解決20nm版圖的挑戰(zhàn),整個操作就像只使用單一的工具一樣順暢。

  Calibre產品營銷處長Joseph Davis指出:「即使在先進節(jié)點設計規(guī)則的數(shù)量與復雜度高的情況下,Calibre RealTime與Laker定制設計平臺基于Open-Access的整合,提高定制工程師的生產力。設計工程師只需專注于優(yōu)化他們的電路設計,因為當他們工作時,這個設計靠著晶圓廠提供的標準簽核確認規(guī)則不斷地被檢查,包括電壓相依性的規(guī)則。當錯誤發(fā)生時,設計工程師同時也得到立即正確簡潔的指引,教你如何修正錯誤」

  定制解決方案市場營銷資深處長 Dave Reed表示:「跟Calibre的整合,讓Laker客戶能實時使用具有簽核確認質量的20nm設計規(guī)則檢查,補強Laker內建設計規(guī)則驅動功能的不足。我們和明導國際結合最廣泛被使用的可互操作性定制平臺,與擁有簽核確認質量實時功能的DRC,使其完全支持TSMC世界級的20nm流程。對于符合20nm設計的挑戰(zhàn),這證明了可互操作性解決方案的力量?!?/p>



關鍵詞: SpringSoft IC設計

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