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stt-mram 文章 進(jìn)入stt-mram技術(shù)社區(qū)
MRAM大勢(shì)將至 產(chǎn)學(xué)界吁應(yīng)盡速計(jì)劃推動(dòng)
- 臺(tái)灣磁性技術(shù)協(xié)會(huì)邀請(qǐng)產(chǎn)學(xué)人士,11月19日于工研院舉辦自旋電子專題論壇,針對(duì)該主題介紹市場(chǎng)與技術(shù)概況。產(chǎn)業(yè)界與學(xué)術(shù)界人士交流該項(xiàng)技術(shù)的看法,對(duì)于磁性存儲(chǔ)器(MRAM)的市場(chǎng)前景樂觀,并認(rèn)為臺(tái)灣產(chǎn)官學(xué)研有迫切攜手推動(dòng)的必要性。 在市場(chǎng)發(fā)展方面,Digitimes研究中心主任黃逸平指出,至2030年存儲(chǔ)器與儲(chǔ)存市場(chǎng)會(huì)由非揮發(fā)性存儲(chǔ)器所主宰,在低耗電市場(chǎng)上,包括L1 Cache在內(nèi),嵌入式存儲(chǔ)器可望為embedded MRAM一統(tǒng),而在重運(yùn)算市場(chǎng)上,MRAM可望拿下L1~L4 Cache、主存儲(chǔ)器以及
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MRAM的黃金時(shí)代即將來(lái)臨?

- MRAM市場(chǎng)可能會(huì)在明年開始變得越來(lái)越“擁擠”──開發(fā)OST-MRAM (Orthogonal Spin Transfer MRAM)技術(shù)的美國(guó)業(yè)者Spin Transfer Technologies (STT)日前宣布在自家研發(fā)晶圓廠制作出僅20奈米的垂直MRAM磁穿隧接面(perpendicular magnetic tunnel junction,pMTJ),其目標(biāo)是在明年第一季開始提供其MRAM樣品,并在2018年讓產(chǎn)品正式上市。 STT執(zhí)行長(zhǎng)Barry Hobe
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三星+IBM STT-MRAM取代傳統(tǒng)DRAM的節(jié)奏
- 三星電子(SamsungElectronics)與IBM攜手研發(fā)出11納米制程的次世代存儲(chǔ)器自旋傳輸(SpinTransferTorque)磁性存儲(chǔ)器(STT-MRAM)。兩家公司也表示,預(yù)計(jì)在3年內(nèi)展開MRAM量產(chǎn),也引起了業(yè)界高度的注目。 韓媒指出,STT-MRAM是可望取代傳統(tǒng)DRAM、SRAM的新世代存儲(chǔ)器技術(shù)。與目前的NANDFlash相比,寫入速度快上10萬(wàn)倍,而讀取速度則是快上接近10倍。由于STT-MRAM只要透過少量電力就可以驅(qū)動(dòng)的非揮發(fā)性存儲(chǔ)器,不使用時(shí)也完全不需要電力。
- 關(guān)鍵字: 三星 MRAM
28納米FD-SOI制程嵌入式存儲(chǔ)器即將問世
- SamsungFoundry準(zhǔn)備開始以28奈米FD-SOI制程,提供SST-MRAM以及快閃記憶體嵌入式非揮發(fā)性記憶體(eNVM)選項(xiàng)。 三星晶圓代工業(yè)務(wù)(SamsungFoundry)準(zhǔn)備開始以28奈米FD-SOI制程,提供SST-MRAM(spintorquetransfermagneticRAM)以及快閃記憶體,做為嵌入式非揮發(fā)性記憶體(eNVM)選項(xiàng)。 SamsungFoundry行銷暨業(yè)務(wù)開發(fā)負(fù)責(zé)人KelvinLow在接受EETimes歐洲版訪問時(shí)表示,該公司的技術(shù)藍(lán)圖顯示,28
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IBM和三星助推 MRAM、PRAM 商用
- 據(jù)海外媒體報(bào)道,DRAM 發(fā)展快到盡頭,磁性存儲(chǔ)器(MRAM)和相變存儲(chǔ)器(PRAM)是最有潛力的接班人?IBM 和三星電子最近宣稱,“自旋傳輸磁性存儲(chǔ)器(STT-MRAM)”的研究出現(xiàn)突破,有望加速走上商用之途。 韓媒 BusinessKorea 11 日?qǐng)?bào)導(dǎo),IBM 和三星在電機(jī)電子工程師學(xué)會(huì)(IEEE)發(fā)布研究論文宣稱,兩家公司攜手研發(fā)的 STT-MRAM 的生產(chǎn)技術(shù),成功實(shí)現(xiàn) 10 納秒(nanosecond)的傳輸速度和超省電架構(gòu),理論上表現(xiàn)超越 DRAM。
- 關(guān)鍵字: IBM MRAM
MRAM在28nm CMOS制程處于領(lǐng)先位置
- 在28nm晶片制程節(jié)點(diǎn)的嵌入式非揮發(fā)性記憶體競(jìng)賽上,自旋力矩轉(zhuǎn)移磁阻式隨機(jī)存取記憶體(STT-MRAM)正居于領(lǐng)先的位置。 比利時(shí)研究機(jī)構(gòu)IMEC記憶體部門總監(jiān)Arnaud Furnemont指出,雖然電阻式隨機(jī)存取記憶體(ReRAM)和相變記憶體(PCM)等其他類型的記憶器也都有其支持者,但這些記憶體都存在著微縮的問題,而難以因應(yīng)28nm CMOS制程的要求。 28nm平面CMOS節(jié)點(diǎn)可望具有更長(zhǎng)的壽命,以因應(yīng)更多的“超越摩爾定律”(More-than-Moore
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日本東北大學(xué),開發(fā)成功超高速小電流MRAM

- 日本東北大學(xué)2016年3月21日宣布,開發(fā)成功了可超高速動(dòng)作的新型磁存儲(chǔ)器(MRAM:Magnetic Random Access Memory)的基礎(chǔ)元件,并實(shí)際驗(yàn)證了動(dòng)作。該元件可兼顧迄今MRAM元件難以實(shí)現(xiàn)的小電流動(dòng)作和高速動(dòng)作。 ? 三種自旋軌道力矩磁化反轉(zhuǎn)元件構(gòu)造。(a)與(b)為以前的構(gòu)造,(c)為此次開發(fā)的構(gòu)造(該圖摘自東北大學(xué)的發(fā)布資料) (點(diǎn)擊放大) PC及智能手機(jī)使用的SRAM及DRAM等半導(dǎo)體存儲(chǔ)器,因構(gòu)成元件的微細(xì)化,性能獲得了提高,但隨著微
- 關(guān)鍵字: MRAM
MRAM接班主流存儲(chǔ)器指日可待

- 記憶體產(chǎn)業(yè)中的每一家廠商都想打造一種兼具靜態(tài)隨機(jī)存取記憶體(SRAM)的快速、快閃記憶體的高密度以及如同唯讀記憶體(ROM)般低成本等各種優(yōu)勢(shì)的非揮發(fā)性記憶體。如今,透過磁阻隨機(jī)存取記憶體(MRAM),可望解決開發(fā)這種“萬(wàn)能”記憶體(可取代各種記憶體)的問題 遺憾的是,實(shí)際讓非揮發(fā)性MRAM的速度更快、密度更高且更便宜(MRAM制造商的承諾)的最佳化步驟,似乎總是還得再等三年之久。如今,荷蘭愛因霍芬科技大學(xué)(Eindhoven University of Technolo
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SK海力士與東芝訴訟和解 提升未來(lái)技術(shù)發(fā)展力
- 東芝(Toshiba)與SK海力士(SK Hynix)宣布將共同開發(fā)下一代半導(dǎo)體制程技術(shù),同時(shí)東芝也撤銷對(duì)SK海力士提出的1.1兆韓元(約9.1億美元)損害賠償訴訟。兩企業(yè)決定集中火力爭(zhēng)取半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)未來(lái)主導(dǎo)權(quán),取代相互耗損的專利訴訟。 據(jù)ET News報(bào)導(dǎo),東芝與SK海力士曾維持很長(zhǎng)時(shí)間的合作關(guān)系。2007年締結(jié)專利授權(quán)合約,并自2011年開始共同開發(fā)下一代記憶體STT-MRAM。2014年3月因記憶體半導(dǎo)體技術(shù)外流,東芝向SK海力士提出告訴,要求1.1兆韓元規(guī)模的民事賠償,雙方關(guān)系因此破裂。
- 關(guān)鍵字: 東芝 SK海力士 STT-MRAM
干掉閃存 - 下代MRAM首次展示:快7倍
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- 近日,日本TDK首次展示了新型存儲(chǔ)技術(shù)MRAM的原型,有望取代如今遍地都是的Flash閃存。MRAM全稱磁阻隨機(jī)訪問內(nèi)存,已經(jīng)存在一段時(shí)間了,但是TDK將其帶到了一個(gè)新的高度。它以磁荷為數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì),而它的名字來(lái)自自旋傳輸矩,也即是寫入數(shù)據(jù)的時(shí)候利用電子角動(dòng)量來(lái)改變磁場(chǎng)。 MRAM技術(shù)的讀寫速度可以媲美SRAM、DRAM,當(dāng)同時(shí)又是非易失性的,也就是可以斷電保存數(shù)據(jù),等于綜合了RAM、Flash的優(yōu)點(diǎn)。 TDK多年來(lái)一直在研究STT-MRAM,但此前從未公開展示。這次拿出的原型芯片
- 關(guān)鍵字: 閃存 MRAM
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