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Inversion Semiconductor旨在實現(xiàn)更明亮、更快速的光刻技術

• Inversion Semiconductor Inc.（加利福尼亞州舊金山）是一家 2024 年的初創(chuàng)公司，計劃利用粒子加速為下一代光刻技術開發(fā)更亮、更可調的光源。該公司表示，與現(xiàn)有系統(tǒng)相比，它將能夠以高達 15 倍的速度制造芯片，并且具有更精細的功能。Inversion 加入 Lace Lithography 是一家初創(chuàng)公司，希望取代或至少被視為成熟的光刻市場領導者 ASML Holding NV 的替代品。當然，這兩家初創(chuàng)公司都看到了使用 13.5nm 波長的極紫外光進行光刻膠閃光曝光的進一步開發(fā)的
• 關鍵字： Inversion Semiconductor  光刻技術