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其他ic/制程
其他ic/制程 文章 最新資訊
c制程漸成熟 有助3C產(chǎn)品微縮設(shè)計(jì)
- 行動(dòng)運(yùn)算產(chǎn)品市場(chǎng)持續(xù)朝產(chǎn)品薄化方向設(shè)計(jì),目前相關(guān)設(shè)計(jì)多使用整合晶片減少元件用量,對(duì)于異質(zhì)核心的封裝整合,若仍使用舊有的封裝技術(shù)將會(huì)造成成品元件仍具一定程度占位面積,必須利用堆疊與更復(fù)雜的3DIC技術(shù)進(jìn)行元件整合的積極微縮設(shè)計(jì)… 矽晶片的制程技術(shù),一直是推進(jìn)行動(dòng)終端產(chǎn)品躍進(jìn)式升級(jí)、改善的關(guān)鍵驅(qū)動(dòng)力,以往透過(guò)SoC(systemonachip)將不同用途的異質(zhì)核心進(jìn)行整合,目前已經(jīng)產(chǎn)生簡(jiǎn)化料件、縮減關(guān)鍵元件占位面積的目的,但隨著使用者對(duì)于行動(dòng)裝置或可攜式裝置的薄化、小型化要求越來(lái)越高,
- 關(guān)鍵字: 3D 制程 矽穿孔
臺(tái)積電新制程 攻行動(dòng)穿戴
- 就在市場(chǎng)普遍關(guān)注晶圓代工廠的28納米制程競(jìng)爭(zhēng)之際,晶圓代工龍頭臺(tái)積電(2330)仍積極將現(xiàn)有技術(shù)升級(jí)為特殊技術(shù)制程產(chǎn)能,原因就是持續(xù)看好行動(dòng)裝置及智能穿戴裝置的強(qiáng)勁成長(zhǎng)動(dòng)能,包括嵌入式快閃存儲(chǔ)器(eFlash)、CMOS影像傳感器、指紋辨識(shí)元件、微機(jī)電及光感測(cè)元件等,都是臺(tái)積電未來(lái)2~3年的布局重點(diǎn)。 臺(tái)積電董事長(zhǎng)張忠謀在上周法說(shuō)會(huì)中,特別提及特殊技術(shù)重要性,因?yàn)樾袆?dòng)裝置及智能穿戴裝置的ARM架構(gòu)核心處理器芯片,會(huì)大量用到28納米以下先進(jìn)制程,但其它的類比或感測(cè)芯片同樣重要,而這些芯片雖不需應(yīng)用
- 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電 制程 NFC
ARM:14nm FinFET之路仍有顛簸
- 自從ARM決定從行動(dòng)裝置跨足到伺服器市場(chǎng)后,無(wú)不加快自己在制程技術(shù)上的腳步,好能跟Intel一決高下,不過(guò)當(dāng)然還是必須協(xié)同主要合作夥伴(臺(tái)積電與三星)的技術(shù)進(jìn)度。對(duì)ARM來(lái)說(shuō),去年年底宣布成功試產(chǎn)(Tape Out)14nm FinFET制程技術(shù)的三星,將是有助于提高自家處理器效能的關(guān)鍵,但目前仍有技術(shù)上的問(wèn)題必須克服。 日前ARM已正式對(duì)外公布2013年Q1財(cái)報(bào),營(yíng)收同樣繼續(xù)維持成長(zhǎng),主要營(yíng)收的大多比重皆是來(lái)自于IP技術(shù)授權(quán)(ARMv8、Mali、big.LITTLE技術(shù))。而低功耗一直以來(lái)都
- 關(guān)鍵字: ARM 制程 14nm
中芯國(guó)際:2013年中28nm工藝基本完成

- ?????????? 問(wèn):作為中國(guó)本土的旗艦型制造企業(yè),您認(rèn)為中國(guó)制造型企業(yè),應(yīng)該如何用創(chuàng)新去應(yīng)對(duì)調(diào)整?如何走特色發(fā)展的道路? ? 答:首先從工藝方面來(lái)看,這15年是非常特殊的時(shí)期,發(fā)展速度很快。我記得我們?cè)谧?0nm的時(shí)候,我們就有一種想法,覺(jué)得做到40、45nm的時(shí)候就差不多了,不過(guò)后來(lái)又發(fā)現(xiàn)還在演進(jìn)。所以我相信,尤其我們年輕一代,用創(chuàng)新精神會(huì)繼續(xù)往下做。 ??
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臺(tái)積電2009年-十月?tīng)I(yíng)收?qǐng)?bào)告

- 臺(tái)積電公司今(10)日公布2009年十月?tīng)I(yíng)收?qǐng)?bào)告,就非合并財(cái)務(wù)報(bào)表方面,營(yíng)收約為新臺(tái)幣291億8,100萬(wàn)元,較今年九月增加了4.1%,較去年同期增加了2.9%。累計(jì)2009年一至十月?tīng)I(yíng)收約為新臺(tái)幣2,259億2,700萬(wàn)元,較去年同期減少了21.9%。 就合并財(cái)務(wù)報(bào)表方面,2009年十月?tīng)I(yíng)收約為新臺(tái)幣302億1,900萬(wàn)元,較今年九月增加了4.4%,較去年同期增加了2.5%。累計(jì)2009年一至十月?tīng)I(yíng)收約為新臺(tái)幣2,338億6,600萬(wàn)元,較去年同期減少了21.5%。 臺(tái)積電營(yíng)收?qǐng)?bào)告(非合
- 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電 40nm 制程
臺(tái)積電40nm制程仍存良率不足問(wèn)題

- 據(jù)業(yè)界分析,臺(tái)積電的40nm制程目前仍然存在著良率不足的問(wèn)題。今年早些時(shí)候,臺(tái)積電曾公開(kāi)承認(rèn)此問(wèn)題,但后來(lái)他們宣稱已解決先前大部分良率問(wèn)題。不過(guò),根據(jù)本周四Nvidia公司舉辦的一次會(huì)議的內(nèi)容,我們可以看出Nvidia公司內(nèi)部對(duì)臺(tái)積電的40nm產(chǎn)能及良率方面仍然存在較大的擔(dān)憂。而另外一 家廠商AMD也是深受其害。 不過(guò)并非所有廠商的情況均是如此,比如Altera公司便表示其委托臺(tái)積電代工的40nm FPGA產(chǎn)品“良率數(shù)據(jù)良好。” 相比之下,Nvidia則對(duì)臺(tái)積電的4
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代工產(chǎn)業(yè)醞釀巨變 整合將使第一階陣營(yíng)縮小
- 市場(chǎng)研究公司iSuppli指出,IC市場(chǎng)低迷很可能縮小第一階純代工廠商陣營(yíng),未來(lái)第一階代工廠商的數(shù)量可能減少至3家。 “2009年是代工廠商希望趕緊過(guò)去的一年。”iSuppli分析師Len Jelinek在一份聲明中表示,“然而,明年很可能出現(xiàn)新的挑戰(zhàn),競(jìng)爭(zhēng)成本的增長(zhǎng)將使玩家數(shù)量減少。” 2009年全球純代工廠商收入預(yù)計(jì)為178億美元,減少10.9%,明年將增長(zhǎng)21%至216億美元。 “開(kāi)發(fā)實(shí)現(xiàn)下一代制程的成本迅速增長(zhǎng)。想在
- 關(guān)鍵字: TSMC 代工 制程
臺(tái)積電為提升45納米以下制程產(chǎn)能進(jìn)行采購(gòu)
- 臺(tái)積電近日表示,雖然尚未公布今年的資本支出計(jì)劃,但仍將持續(xù)進(jìn)行設(shè)備采購(gòu),并以提升45、40納米的先進(jìn)制程產(chǎn)能為主。 臺(tái)積電本周連續(xù)公告自AMAT等廠商購(gòu)入設(shè)備,金額累計(jì)達(dá)54.8億臺(tái)幣。據(jù)悉,第二季臺(tái)積電投資設(shè)備金額將超過(guò)100億臺(tái)幣。對(duì)此,臺(tái)積電代理發(fā)言人曾晉皓對(duì)表示,“設(shè)備采購(gòu)基本上以45、40納米的先進(jìn)制程為主,我們?cè)谶@方面較缺乏,至于投入多少要以市場(chǎng)需要而定。”他并指出,公司今年資本支出還沒(méi)決定,但還沒(méi)決定不代表不買設(shè)備。 雖然臺(tái)積電未說(shuō)明在45、40納米先
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臺(tái)積電率先推出40納米制程
- 臺(tái)積電今(24)日表示,領(lǐng)先專業(yè)集成電路制造服務(wù)領(lǐng)域推出40納米制程。此一新世代制程包括提供高效能優(yōu)勢(shì)的40納米泛用型制程(40G)以及提供低耗電量?jī)?yōu)勢(shì)的40納米低耗電制程(40LP);同時(shí)提供完備的40納米設(shè)計(jì)服務(wù)套件及包括經(jīng)過(guò)制程驗(yàn)證的合作廠商硅智材、設(shè)計(jì)自動(dòng)化工具,以及臺(tái)積公司的電性參數(shù)模型(SPICE Model)及核心基礎(chǔ)硅智材的完整設(shè)計(jì)生態(tài)環(huán)境。而首批客戶產(chǎn)品預(yù)計(jì)于2008年第二季產(chǎn)出。 臺(tái)積公司40納米制程重點(diǎn): ?芯片閘密度(Raw gate density)是65納米制
- 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電 40納米 制程
制程工藝技術(shù)發(fā)展探討
- IBM聯(lián)盟開(kāi)發(fā)出可在32納米芯片中加速實(shí)現(xiàn)一種被稱為“high-k/metal gate(高電介質(zhì)金屬柵極)”的突破性材料。這種新方法是基于被稱為“high-k gate-first(高電介質(zhì)先加工柵極)”加工工藝的方法,為客戶轉(zhuǎn)向高電介質(zhì)金屬柵極技術(shù)提供了一種更加簡(jiǎn)單和更省時(shí)間的途徑,由此而能夠帶來(lái)的益處包括性能的提高和功耗的降低。通過(guò)使用高電介質(zhì)金屬柵極,IBM與聯(lián)盟合作伙伴成功地開(kāi)發(fā)出比上一代技術(shù)體積小50%的芯片,同時(shí)提高了眾多性能。使用這種新技術(shù)的
- 關(guān)鍵字: 制程 工藝
Xilinx新小封裝FPGA降低50%成本
- 2008年1月15日,中國(guó)北京-全球領(lǐng)先的可編程邏輯器件(PLD)供應(yīng)商賽靈思公司(Xilinx, Inc. (NASDAQ: XLNX))宣布推出其最新的90nm低成本Spartan™-3A FPGA器件。針對(duì)數(shù)字顯示、機(jī)頂盒以及無(wú)線路由器等應(yīng)用而優(yōu)化的這些小封裝器件滿足了業(yè)界對(duì)更小器件封裝尺寸的需求,為成本極為敏感的消費(fèi)電子設(shè)計(jì)提供將更好的支持。 Spartan-3系列平臺(tái):低成本消費(fèi)應(yīng)用的首選 賽靈思在大批量消費(fèi)應(yīng)用領(lǐng)域所取
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半導(dǎo)體進(jìn)入個(gè)人消費(fèi)時(shí)代 產(chǎn)品差異化提升設(shè)計(jì)工具價(jià)值
- 近年來(lái),消費(fèi)電子產(chǎn)品的成長(zhǎng)勢(shì)頭強(qiáng)勁,更小、更快、更省電的芯片日益得到市場(chǎng)的青睞。同時(shí),半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)也面臨著非常嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)和壓力,包括不斷上漲的研發(fā)費(fèi)用、產(chǎn)品生命周期管理和消費(fèi)者變化多端的個(gè)性化需求。在與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的研發(fā)緊密關(guān)聯(lián)的電子自動(dòng)化解決方案(EDA)領(lǐng)域,也同半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一樣,面臨著日益激烈的競(jìng)爭(zhēng)。合作成為各大公司發(fā)展的必然,而工藝技術(shù)從65nm到45nm進(jìn)而向32nm的演進(jìn),集成化的完整的端到段端的設(shè)計(jì)解決方案將成為2008年EDA供應(yīng)商的追求。 消費(fèi)類芯片是中國(guó)市場(chǎng)最大熱點(diǎn) Synopsys中國(guó)
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歡迎您創(chuàng)建該詞條,闡述對(duì)其他ic/制程的理解,并與今后在此搜索其他ic/制程的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
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