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光刻機(jī) 文章 最新資訊

被美國給打醒！俄羅斯想造光刻機(jī)，全新的技術(shù)，對標(biāo)了ASML的EUV

  • 被美國給打醒！俄羅斯想造光刻機(jī)，全新的技術(shù)，對標(biāo)了ASML的EUV誰都知道，俄羅斯已經(jīng)被美國全面打壓了。俄羅斯的晶片需求量并不大，每年的進(jìn)口量，也就是一億美元左右，大部分的晶圓廠，都不會(huì)和美國競爭。但俄羅斯的一億美金，在俄羅斯來說，就是一個(gè)天文數(shù)字。俄羅斯將會(huì)做什么？前段時(shí)間，有消息說俄羅斯準(zhǔn)備重新做一臺(tái)光刻機(jī)。他的目標(biāo)很明確，就是要用ASML的最新光刻機(jī)，去挑戰(zhàn)目前最尖端的EUV（UV）。當(dāng)然，ASML也不可能戰(zhàn)勝ASML，因?yàn)锳SML的EUV光刻機(jī)，都是全世界的人幫忙做的，俄羅斯這邊，根本就沒有人去做
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瞄準(zhǔn) 3D 結(jié)構(gòu)半導(dǎo)體制造封裝需求，尼康力圖實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)出貨量倍增

  • 集微網(wǎng)消息，據(jù)日經(jīng)新聞報(bào)道，尼康公司日前提出半導(dǎo)體光刻設(shè)備新的業(yè)務(wù)發(fā)展目標(biāo)，即到 2026 年 3 月為止的財(cái)年，將光刻機(jī)年出貨量較目前的三年平均水平提高一倍以上。報(bào)道稱，尼康將積極開拓除英特爾以外的其他客戶，特別是日本本土和中國地區(qū)客戶，計(jì)劃將英特爾在光刻機(jī)設(shè)備營收中所占比重從 80% 降低到 50%。尼康還將推出適應(yīng) 3D 堆疊結(jié)構(gòu)器件如存儲(chǔ)半導(dǎo)體、圖像傳感器制造需求的光刻機(jī)新產(chǎn)品，已提高其在成熟制程設(shè)備市場的競爭力，目前，該公司平均每年售出 16 臺(tái) ArF 光刻機(jī)（含二手翻新）。
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俄羅斯7萬名IT專家出走！芯片儲(chǔ)備告警，俄羅斯自主研發(fā)光刻機(jī)

  • 在俄羅斯開始對烏克蘭的特別軍事行動(dòng)之后，西方國家開始對俄羅斯施加各種各樣的制裁。俄羅斯當(dāng)前面臨嚴(yán)峻的商業(yè)環(huán)境和政治環(huán)境，許多信息產(chǎn)業(yè)的科技人才紛紛出走，尋找更加安全且有保障的就業(yè)環(huán)境。根據(jù)美媒1日的報(bào)道，烏克蘭戰(zhàn)爭爆發(fā)以來已經(jīng)多7萬多名IT技術(shù)專家從俄羅斯離開，一些國家向俄羅斯的專業(yè)技術(shù)人才招手，充實(shí)自己的高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。俄羅斯大量信息技術(shù)人才流失的情況已經(jīng)得到俄羅斯電子通訊協(xié)會(huì)方面的承認(rèn)，該協(xié)會(huì)上周向俄羅斯杜馬委員會(huì)遞交的報(bào)告之中指出，當(dāng)前俄羅斯已經(jīng)流失了5萬到7萬人的科技人才。盡管當(dāng)前俄羅斯的人才
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顯卡、內(nèi)存全在跌 ASML的EUV光刻機(jī)賣不動(dòng)：一下少了15臺(tái)

  • 全球半導(dǎo)體市場從產(chǎn)能緊張已經(jīng)轉(zhuǎn)向過剩，部分領(lǐng)域跌價(jià)跌得厲害，比如顯卡、內(nèi)存及SSD等，這一波芯片價(jià)格下滑也會(huì)影響廠商的生產(chǎn)計(jì)劃，結(jié)果就是ASML一度供不應(yīng)求的EUV光刻機(jī)賣不動(dòng)了，今年出貨量減少15臺(tái)。ASML昨天發(fā)布了2022年Q2季度財(cái)報(bào)，當(dāng)季凈銷售額為54.31億歐元，好于市場預(yù)期的52.6億歐元，上年同期為40.20億歐元，同比增長35%。凈利潤為14.11億歐元，上年同期為10.38億歐元，同比增長36%。雖然業(yè)績大漲，但是ASML對全年的預(yù)期更加悲觀，從之前預(yù)期增長20%下調(diào)到了增長10%，其
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卡脖子也沒用 國內(nèi)廠商芯片新技術(shù)繞過EUV光刻機(jī)

  • 毫無疑問，如今國內(nèi)芯片廠商面前最大的障礙就是EUV光刻機(jī)，不過EUV光刻機(jī)是研制先進(jìn)芯片的一條路徑，但并非唯一解。    對于國內(nèi)廠商來說，當(dāng)前在3D NAND閃存的發(fā)展上，就因?yàn)椴恍枰狤UV機(jī)器，從而找到了技術(shù)追趕的機(jī)會(huì)。而在DRAM內(nèi)存芯片領(lǐng)域，盡管三星、美光、SK海力士找到的答案都是EUV，可來自浙江海寧的芯盟則開辟出繞過EUV光刻的新方案。芯盟科技CEO洪沨宣布基于HITOC技術(shù)的3D 4F2 DRAM架構(gòu)問世。他指出，基于HITOC技術(shù)所開發(fā)的全新架構(gòu)3D 4F2 DRA
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臺(tái)積電高管：將在2024年引入阿斯麥最新極紫外光刻機(jī)

  • 　　6月17日消息，據(jù)外媒報(bào)道，臺(tái)積電高管周四表示，該公司將在2024年引入荷蘭廠商阿斯麥的最新一代光刻機(jī)。　　臺(tái)積電研發(fā)高級副總裁米玉杰在硅谷舉行的技術(shù)研討會(huì)上表示，“展望未來，臺(tái)積電將在2024年引入高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機(jī)，為的是開發(fā)客戶所需相關(guān)基礎(chǔ)設(shè)施和模式解決方案，進(jìn)一步推動(dòng)創(chuàng)新?！薄　∶子窠懿⑽赐嘎缎乱淮饪虣C(jī)引入后何時(shí)用于大規(guī)模生產(chǎn)芯片。阿斯麥推出的第二代極紫外線光刻機(jī)能用于制造尺寸更小、處理速度更快的芯片。臺(tái)積電競爭對手英特爾公司此前表示，將在2025年之前開始使用新一代光刻機(jī)生產(chǎn)芯片，并
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佳能新發(fā)售KrF半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-6300ES6a”Grade10升級包

  • 佳能將于2022年8月初發(fā)售KrF ※1半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-6300ES6a”的“Grade10”產(chǎn)能升級配件包（以下簡稱“Grade10”升級包）。KrF半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-6300ES6a” 自發(fā)售至今，已經(jīng)在生產(chǎn)存儲(chǔ)器和邏輯電路的大型半導(dǎo)體器件制造廠商中收獲良好口碑，此次發(fā)布的“Grade10”升級包將助力該設(shè)備在300mm晶圓規(guī)格基礎(chǔ)上，以每小時(shí)高達(dá)300片※2晶圓的加工能力實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體光刻行業(yè)內(nèi)的更高水平※3。           
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ASML 分享 High-NA EUV 光刻機(jī)最新進(jìn)展：目標(biāo) 2024-2025 年進(jìn)廠

  • 5 月 29 日消息，半導(dǎo)體行業(yè)花了十多年的時(shí)間來準(zhǔn)備極紫外線 (EUV) 光刻技術(shù)，而新的高數(shù)值孔徑 EUV 光刻（High-NA EUV）技術(shù)將會(huì)比這更快。目前，最先進(jìn)的芯片是 4/5 納米級工藝，下半年三星和臺(tái)積電還能量產(chǎn) 3nm 技術(shù)，而對于使用 ASML EUV 光刻技術(shù)的 Twinscan NXE:3400C 及類似系統(tǒng)來說，它們大都具有 0.33 NA（數(shù)值孔徑）的光學(xué)器件，可提供 13 nm 分辨率。目前來看，這種分辨率尺寸對于 7 nm / 6 nm 節(jié)點(diǎn) (36 nm ~ 38 nm)
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業(yè)績超預(yù)期：日本佳能光刻機(jī)銷售火爆

  • 光刻機(jī)是半導(dǎo)體芯片制造中的核心設(shè)備，日本佳能公司也有光刻機(jī)，現(xiàn)在賣得也不錯(cuò)，推動(dòng)業(yè)績大漲。很多人都知道佳能主業(yè)是相機(jī)，不過這幾年全球數(shù)碼相機(jī)業(yè)務(wù)持續(xù)下滑，佳能也難免受到?jīng)_擊，最近幾年增長的反而是其他業(yè)務(wù)，該公司即將發(fā)布2022財(cái)年（2021年4月到今年3月），預(yù)計(jì)全年利潤可達(dá)2500億日元，約合19億美元或者126億人民幣，比1月份公布的指引高出50億日元，同比大漲20%。推動(dòng)佳能業(yè)績大漲的業(yè)務(wù)主要是安全攝像頭以及光刻機(jī)，而且隨著半導(dǎo)體設(shè)備投資的增加，佳能的光刻機(jī)業(yè)務(wù)還會(huì)持續(xù)增長。從佳能官網(wǎng)上可以查到，該
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ASML公司開撕美國？光源技術(shù)不是根源，不交付EUV光刻機(jī)另有原因

  • ASML公司雖然是荷蘭企業(yè)，但不少網(wǎng)友都把ASML公司“美”化了，這里的“美”指的是美國。在華為遭遇到芯片封鎖之前，中國半導(dǎo)體企業(yè)就曾向ASML公司支付了定金，采購了一臺(tái)EUV光刻機(jī)。然而，ASML公司卻遲遲沒有發(fā)貨，這也引起了網(wǎng)友的各種猜疑。眾所周知，全世界只有ASML公司能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)，而一部EUV光刻機(jī)上就有超過10w的精密零件，各方面的技術(shù)也是來自全世界各國的頂尖技術(shù)。所以ASML公司的光刻機(jī)一直是供不應(yīng)求。但明明已經(jīng)收了定金，10億一部的EUV光刻機(jī)，ASML公司為何有生意不做呢？大部分的
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俄羅斯投資6.7億盧布，開發(fā)新型的光刻機(jī)，性能或?qū)⒊紼UV光刻機(jī)

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投資5000多萬 俄羅斯計(jì)劃研發(fā)全新EUV光刻機(jī)：ASML都沒有

  • 光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備之一，EUV光刻機(jī)全球也只有ASML公司能夠研發(fā)、生產(chǎn)，但它的技術(shù)限制也很多，俄羅斯計(jì)劃開發(fā)全新的EUV光刻機(jī)，使用的是X射線技術(shù)，不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片。　　光刻機(jī)的架構(gòu)及技術(shù)很復(fù)雜，不過決定光刻機(jī)分辨率的主要因素就是三點(diǎn)，分別是常數(shù)K、光源波長及物鏡的數(shù)值孔徑，波長越短，分辨率就越高，現(xiàn)在的EUV光刻機(jī)使用的是極紫外光EUV，波長13.5nm，可以用于制造7nm及以下的先進(jìn)工藝工藝?！　《砹_斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)現(xiàn)在就接下了貿(mào)工部的6.7億盧布資金(約合51
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光刻機(jī)“電老虎” 中芯國際一年耗電29億度：不到臺(tái)積電零頭

  • 芯片制造是公認(rèn)的高科技，但是這也是個(gè)非常消耗電力及水力的行業(yè)，其中的關(guān)鍵設(shè)備光刻機(jī)就是名副其實(shí)的電老虎，EUV光刻機(jī)一天就能耗電3萬度以上，導(dǎo)致晶圓生產(chǎn)中電費(fèi)都是高成本的存在。那國內(nèi)最大的晶圓制造企業(yè)中芯國際到底有多耗電呢？該公司日前也發(fā)布了企業(yè)責(zé)任報(bào)告，公布了2021年度的能耗情況，具體如下：2021年，中芯國際能源消耗總量為2,887.69百萬千瓦時(shí)，能源消耗強(qiáng)度為12.77千瓦時(shí) /8 吋晶圓當(dāng)量-光罩?jǐn)?shù)，與 2020年基本相當(dāng)。簡單來說，中芯國際去年的總能耗大概是28.9億度電，其中直接的電力消耗
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佳能將于2023年上半年發(fā)售3D半導(dǎo)體光刻機(jī)，曝光面積是現(xiàn)在的4倍

  • 4 月 1 日消息，據(jù)日經(jīng)中文網(wǎng)報(bào)道，佳能正在開發(fā)用于半導(dǎo)體 3D 技術(shù)的光刻機(jī)。佳能光刻機(jī)新品最早有望于 2023 年上半年上市。曝光面積擴(kuò)大至現(xiàn)有產(chǎn)品的約 4 倍，可支持 AI 使用的大型半導(dǎo)體的生產(chǎn)。3D 技術(shù)可以通過堆疊多個(gè)半導(dǎo)體芯片使其緊密連接來提高性能的方式。據(jù)介紹，在放置芯片的板狀零部件上，以很高的密度形成以電氣方式連接各個(gè)芯片的多層微細(xì)布線，佳能就正在開發(fā)用于形成這種布線的新型光刻機(jī)，過在原基礎(chǔ)上改進(jìn)透鏡和鏡臺(tái)等光學(xué)零部件，來提高曝光精度以及布線密度。據(jù)稱，普通光刻機(jī)的分辨率為十幾微米，但
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攻克“光源中的光源”，中國有機(jī)會(huì)

  • 當(dāng)前，芯片問題廣受關(guān)注，而半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠——以極紫外（EUV）光刻機(jī)為代表的高端光刻機(jī)，則是我國集成電路（IC）產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展必須邁過的“如鐵雄關(guān)”。如何在短期內(nèi)加快自主生產(chǎn)高端光刻機(jī)的步伐，打破國外的技術(shù)封鎖和市場壟斷？筆者認(rèn)為，應(yīng)找準(zhǔn)關(guān)鍵技術(shù)，攻克核心設(shè)備，躋身上游產(chǎn)業(yè)。認(rèn)清光刻關(guān)鍵技術(shù)對于光刻機(jī)，憑什么美國可以左右荷蘭阿斯麥公司（ASML）EUV光刻機(jī)的出海國家？ASML又為什么“愿意”聽從美國的“擺布”？一方面，美國在ASML早期研發(fā)階段給予大力扶持，幫助其獲取最新的研究成果；作為繼續(xù)扶持
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光刻機(jī)介紹

國外半導(dǎo)體設(shè)備 我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺(tái)灣3S公司生產(chǎn)的光刻機(jī),涂膠臺(tái), 金絲球焊機(jī),電子束蒸發(fā)臺(tái)。 濺射臺(tái)及探針臺(tái)等各種設(shè)備,世界知名劃片機(jī)企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸 精密劃片機(jī)，300毫米清洗機(jī),。 如您感興趣請登錄以下網(wǎng)站或Email: 網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn www.chihoc [ 查看詳細(xì) ]

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