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清洗 文章 最新資訊

智能大功率超聲波清洗電源的研制

  • 1 前言鑒于超聲波清洗效果好、效率高、成本低等優(yōu)點，超聲波清洗機被廣泛應用于電子、機械、鐘表、光學、醫(yī)療、化纖、電鍍等行業(yè)[1]。在超聲波清洗設備中，超聲波電源是其重要組成部分之一。現(xiàn)有的超聲波電源大多數(shù)采
  • 關鍵字： 電源  研制  清洗  超聲波  大功率  智能  

半導體清洗技術

  • 　　中心議題： 　　半導體清洗技術的進展 　　當前與未來的挑戰(zhàn) 　　解決方案： 　　濕法清洗 　　廣泛使用臭氧水 　　晶圓清洗是半導體制造典型工序中最常應用的加工步驟。就硅來說，清洗操作的化學制品和工具已非常成熟，有多年廣泛深入的研究以及重要的工業(yè)設備的支持。所以，硅清洗技術在所有具實際重要性的半導體技術中是最為成熟的。第一個完整的、基于科學意義上的清洗程序在1970年就提出了，這是專門設計用于清除Si表面的微粒、金屬和有機污染物。 　　此后，硅清洗技術經歷了持續(xù)的發(fā)展改進，包括早期用氣相等
  • 關鍵字： 半導體  清洗  

ZESTRON任命中國區(qū)總經理

  •         精密清洗產品以及清洗服務供應商ZESTRON向外界公布其對沈健（John Shen）為中國區(qū)總經理的任命。         沈先生將在其新的職位上繼續(xù)拓展ZESTRON在中國以及北亞地區(qū)作為清洗工藝供應商的領導地位。         ZESTRON亞洲區(qū)資深副總裁Ralph Ho
  • 關鍵字： ZESTRON  清洗  
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